細村　嘉一

			Yoshikazu HOSOMURA		Master
			epitaxial な challenger です。シリサイドナノワイヤーに挑戦します。バンジーも見てネ。

現所属

• （株）東芝セミコンダクター社

修士論文

• 「In吸着表面超構造の電気伝導の研究」(2006年3月）

投稿論文

1. Hiroyuki Okino,. Iwao Matsuda, Rei Hobara, Yoshikazu Hosomura, Shuji Hasegawa, and P. A. Bennett:
   In situ resistance measurements of epitaxial cobalt silicide nanowires on Si(110)
   Applied Physics Letters 86, 233108 (June 2005).
   
   
2. Hiroyuki Okino, Iwao Matsuda, Rei Hobara, Yoshikazu Hosomura, Shuji Hasegawa, and P. A. Bennett:
   Resistance measurements of metallic silicide nanowires on a Si substrate with a four-tip scanning tunneling microscope
   e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 3, 362-366 (Dec, 2005).
   
   

学会発表

1. H. Okino, I. Matsuda, R. Hobara, Y. Hosomura, Z. He, P. A. Bennett, and S. Hasegawa:
   Transport properties of epitaxial cobalt silicide nanowires on Si(110)
   13th International Congress on Thin Films/8th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ICTF 13/ACSIN 8), 2005/June/19-23, Stockholm, Sweden.
   
   
2. 沖野泰之、松田巌、保原麗、細村嘉一、長谷川修司、P. A. Bennett:
   CoSi2ナノワイヤの電気伝導特性,
   日本物理学会第60回年次大会、2005/Mar/24、東京理科大学、野田.
   
   
3. 沖野泰之、松田巌、保原麗、細村嘉一、Zhian He, P. A. Bennett,長谷川修司：
   自己組織化によって作製されたCoSi$_2$ナノワイヤの電気伝導特性、
   第52回　応用物理学関係連合講演会、
   2005年3月29日 (埼玉大学).
   
   
4. 細村 嘉一, 中山 隆, 長谷川 修司, 松田 巌：
   マイクロ４探針プローブ法の数値シミュレーション
   日本表面科学会表面講演大会 2004年11月（早稲田大学）.